近段时间，美拉拢日荷达成了协议，计划共同对先进芯片制造设备进行限制。这个消息最不爽的就是ASML了，因为将会限制DUV光刻机，为此率先对外宣布了消息。就在这时，我国哈工大突破光刻相关技术，日本尼康中标了中企ArFi浸没式DUV光刻机，笔者认为ASML接下来也会有大动作。果然不出所料，ASML突然重提两件事。
一是重提光刻机按计划扩产。
美日荷达成协议后，三方均没有对外公布相关信息，反而ASML率先对外确认此事，并明确表示协议已经达成，但具体实施还要一段时间，因为需要修改相关的法规。
同时，还对外表示，协议不会对ASML2023年的营收产生影响。ASML的动作明显是急着对外释放消息，应该是提醒中企，尽快在协议实施前下单，以便尽可能多地出货。不过，可能是效果不明显。上海积塔半导体发布的DUV光刻机招标，尼康还中标了。
于是，ASML在近日发布了2022年度报告。在报告中，ASML再次重提光刻机扩产计划，预计2025-2026年大幅提升光刻机产能，达到年产90台EUV和600台DUV。
ASML的这个光刻机扩产计划早就提出了，当时还是全球缺芯期间，全球各地都在加码扩建晶圆厂，光刻机需求激增，ASML的产能供不应求，才做出了这样的扩产计划。ASML之所以会计划年产600台DUV，也是考虑到大陆市场建设的晶圆厂数量较大。
然而，现在形势已经变了，缺芯开始向过剩转变，很多晶圆大厂都纷纷削减了资本支出，台积电也不例外。不过，大陆晶圆厂还在加速推进，中芯国际还扩大了支出。
但三方协议已经达成，DUV可能会被限制。这种情况下，ASML再次重提光刻机扩产计划，并且数量没有变化。如果DUV被限制出货了，恐怕ASML很难出货这么多。那么，ASML再次重提扩产计划，又意味着什么呢？是不是在对外传递某些信息呢。
二是重提雇员盗用数据事件
除了重提光刻机扩产计划外，ASML还重提了另一件事，那就是“数据窃取”事件，报告中提到：我们在中国的一名前雇员，未经授权盗用了我们与专利技术相关数据。
据美媒消息，有内部人士透露，数据包括生产一些最先进芯片至关重要的光刻系统。此类事件，ASML在2021年的报告中已经提到过，XTAL公司因为密已被判赔偿，但与之相关的中企东方晶源，可能正积极地在中国销售侵犯ASML知识产权的产品。
ASML的一名前员工，已于2012年离职。2014年初，成立了XTAL和东方晶源两个公司。其中，XTAL主要设计和制造半导体设备，东方晶源专注于集成电路良率管理。
2016年，ASML对XTAL发起诉讼，指控其美国子公司的几名前员工窃取了相关公司机密。2018年初步裁决XTAL五项罪名成立，2019年最终判决赔偿8.45亿美元。至此，该“数据窃取”案算是终结了，XTAL已宣布破产，知识产权也由ASML接手。
之后没了消息，直到2021年时，ASML在年报中再次提及，ASML还联系部分客户要求暂停与东方晶源的业务往来。不过，东方晶源发表声明，所有技术均是自主研发。
那时，ASML和东方晶源均没有太过于较真，在发布了相关声明后，事件就过去了。然而，在美日荷三方达成协议、即将限制DUV的关键时刻，ASML再次重提前员工窃取机密一事，美媒还提到数据跟先进光刻机设备有关，这事件恐怕并不那么简单。
据相关业内人士表示，ASML重提两件事主要还是想避免DUV被限制，尽量争取继续正常出货。重提到数据被窃，主要是提醒美方限制已经没有意义，中企会尽快突破。
重提光刻机扩产计划，正是表明还在为正常光刻机出货做好准备。可以说，ASML重提这两件事，当然不是随便提及，肯定是想要达到自己的目的，避免造成更大的损失。在DUV限制前，ASML突然重提两件事。外媒表示：有点意味深长，可能被逼急了！