不久前，美国为了阻止中国半导体行业获得先进的光刻机，便联合日、荷签订了所谓的“三方协议”，目的就是进一步限制半导体设备的出货。
众所周知，荷兰的ASML拥有着全世界最先进的光刻机制造技术，其在芯片制造领域的地位毋庸置疑。自从ASML被美国限制EUV光刻机的出货之后，拜登仍旧不满足，转头就盯上了DUV光刻机。不过据ASML透露，还是有很多旧款的DUV光刻机不受禁令影响，可以继续向中国市场供货。
在全球芯片市场持续低迷的情况下，中国市场对于成熟芯片的需求量大幅度增加，而中国在芯片上又陷入了被“卡脖”的窘境，只能被迫走上了自主造芯之路，因此对于ASML的旧款光刻机同样具有很大的需求量。据公开招标的信息显示，ASML又拿下了中国厂商6台光刻机的订单，令拜登猝不及防，于是就有美媒表示：ASML果然不是“自己人”。
美国之所以煞费心机的想要限制ASML光刻机的出货，无非是ASML的光刻机制造技术领跑全世界，台积电、三星、高通等芯片代工厂商都是ASML的重要客户。而且，ASML还是全球唯一一家可以生产EUV光刻机的厂商，所以在高端光刻机市场扮演着重要角色。
一旦美国成功限制了ASML光刻机的出货，将会抓住中国芯片领域的“命脉”。中芯国际早在2018年就向ASML订购了一台EUV光刻机，但是过去了这么多年也没有交货的迹象。
如今就连DUV光刻机都要被加入到出口管制中，据悉，美国联合日、荷签订的“三方协议”会在今年夏季正式实施，届时除了低端型号的光刻机之外，ASML的其他光刻机的出口都会受到限制。
可尽管如此，ASML并不想就此放弃中国市场，毕竟中国芯片市场拥有庞大的消费需求，所以ASML多次表示会加快对中国市场的供货。中企积塔半导体突然宣布了设备中标信息，表示ASML拿下了6台光刻机设备订单，包括2台ArF扫描式光刻机和4台KrF扫描式光刻机。
虽然在光刻机制造领域，除了EUV光刻机之外，并不是只有ASML能够生产光刻机，日本的佳能、尼康和中国的上海微电子都具有制造中低端光刻机的能力。
可即便ASML在中低端光刻机市场没有达到完全垄断的地步，但还是拿下了积塔半导体的光刻机订单，说明ASML的实力和产能是得到业内认可的。
目前ASML正在提升光刻机产能，预计但2026年将会把DUV光刻机的年产能提升至600台，用来占据更多的中低端光刻机市场。
而中国芯片市场对于光刻机的需求量很大，所以ASML不可能完全放弃中国市场。据悉，华虹半导体正在筹建12nm晶圆厂，中芯国际计划在建4座12nm晶圆厂，积塔半导体和格科微等国产芯片厂商都拥有不同程度的产能扩充需求，都需要大量光刻机的支持。
同时，为了彻底摆脱美国的芯片封锁，近几年来我国一直都在致力于芯片自主化，并且定下了芯片自给率达到70%的目标。据目前的数据显示，截止到4月份，中国集成电路的进口数量为1468亿颗，已经同比下降了21.1%，几乎减少了400亿颗芯片的进口。
这对于ASML来说是很好的机会，因为中国致力于芯片自给率的提升时，对于光刻机的需求会大幅度增加，只要和中国市场保持良好的合作关系，不愁没订单。
而且，荷兰的外交大臣访华时也表示：中国是重要的贸易伙伴，未来有必要主动寻求合作。所以不排除荷兰是受到美国的威逼利诱，才会与其签订所谓的“三方协议”。
不过对于我们来说，不管ASML是否可以顺利供货，ASML光刻机也是别人的，我国也有自己的光刻机制造企业，只不过因为起步较晚，技术尚不成熟，所以和ASML相比还有更大的差距。
但是核心技术只有掌握在自己手中才是最可靠的，在必要的时候要用上我们的国产光刻机，摆脱对进口的依赖。希望国内光刻机厂商可以持续攻坚，努力发展自研技术，推动中国芯片半导体产业的崛起。