2纳米EUV光刻机即将交付，然而，这一消息却引发了一场激烈的竞争。让我们一起来揭开这个引人注目的故事。
随着第二代EUV光刻机的亮相，科技巨头们纷纷为其抢夺，其中美国芯片巨头Intel以其全球领先地位，首批拿下了6台，而剩下的4台则成为三星、台积电、SK海力士等企业争夺的焦点。这一竞争不仅关乎市场份额，更关涉到各公司在先进工艺制程上的竞争力。
而对于台积电和三星来说，当前使用的第一代EUV光刻机在生产3纳米芯片时遇到了一些问题。台积电仍然采用成熟的FinFET技术，但生产的3纳米芯片良率仅为55%，远不及5纳米的90%以上。而三星则采用激进的GAA技术，虽然性能提升幅度未知，但由于良率低至一到两成，导致3纳米成本高昂，缺乏客户采用。这使得第二代EUV光刻机的出现显得尤为重要，它有望提高生产效率、降低成本，进而改善芯片性能。
然而，2纳米的制程并非易事，更何况采用第一代EUV光刻机生产3纳米芯片都面临困难。因此，第二代EUV光刻机的推出备受期待，其精准的光刻和较低的耗电量有望为3纳米制程带来质的提升，提高生产良率，从而在竞争中占据有利地位。
然而，这场竞争不仅仅是科技领域的技术之争，更涉及到国家层面的角力。美国作为芯片制造领域的重要玩家，曾经因为技术滞后失去领先地位。为了重拾制造业的主导权，美国采取了一系列手段，对台积电和三星进行软硬兼施的打压。例如，通过技术限制和芯片补贴，美国迫使台积电和三星赴美设厂，并分享技术和利润。
然而，美国的做法也让我们看到了其中的暗潮。芯片补贴分配方面，美国给予台积电的仅有10%，甚至不如给予三星的13%。而最新的消息更显示，美国要求ASML将2纳米光刻机优先交给Intel，这明显是在助力本土芯片企业，尤其是Intel。
Intel预计在2025年量产2纳米工艺，而台积电则至少得等到2026年，这使得台积电在先进工艺制程上陷入困境。业界普遍认为，无论台积电如何亲近美国，美国都会采取手段阻碍其发展，以确保Intel重新夺回芯片制造工艺领先地位。
综上所述，2纳米EUV光刻机的交付不仅引发了科技巨头之间的激烈竞争，更揭示了国家在科技领域的角力。台积电作为全球领先的芯片制造企业，此次面临的压力可谓巨大。未来，我们还将见证更多关于这场科技制高点争夺战的发展。科技的进步，竞争的激烈，让我们拭目以待！
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