众所周知，想要制造芯片除了要有制程技术之外，还必须要有光刻机才行。目前全球的光刻机市场基本上都被荷兰的阿斯麦所垄断，尤其是在高端光刻机上ASML更是全球唯一一家可以生产的企业。所以在高端光刻机定价方面掌握着绝对主动权，每台机器都被阿斯麦卖了天价，其利润率高达50%以上，苹果看来都会直呼内行，就这样还被各大半导体厂商疯抢。没办法，不买生产不了芯片呀！但是这一情况或许在不久之后得到改变。
据了解，日本的铠侠和佳能等合作商开发出了一种叫做纳米印压技术（NIL）的新型半导体工艺。这种技术可以用于完成对高制程芯片的生产，实现对高端光刻机的替代。目前纳米印压技术已经可以实现对15纳米芯片的量产，正在向5纳米进发，等到可以实现对5纳米的量产，高端光刻机的优势将荡然无存，不可替代的地位或许将会被打破。这项技术算是开辟了对制造芯片的另一条思路。那么为什么日本的公司可以探索出这项工艺呢？
要知道，日本在半导体领域上一直都是很强的，现在的日本虽然造不出高端光刻机，但是中低端光刻机的制造是没什么问题的。早年间日本的尼康是半导体行业的霸主，就连老美都比不上它，其生产的光刻机全球领先，那时的阿斯麦还是个不怎么出名的小企业。但是树大招风，日本在该领域的强大，在老美看来是一种威胁，所以就对其进行了打压制裁，尼康就是首当其冲的那个。老美为了打压日本的半导体行业成立了一个EUV LLC联盟，汇集了各方面的人才和顶尖公司，研发用于生产光刻机的先进技术，提供给相关的公司，但是尼康不在其中，不能使用其研究成果，这一定程度上导致了尼康的落后和日本在该领域的落后。而阿斯麦就是在这时抱上了老美的大腿，开始了发展起来。
后来的一次决策失误导致了尼康在光刻机领域的永久落后，在当时光刻机正处于技术更新迭代期，能不能在下一代的产品上取得大突破成为了各家公司的关键所在，而尼康在那时选择了求稳，没选用冒险的方式去强推技术更新。但是那时的阿斯麦采用了激进的方式，采用了被各大公司拒绝的台积电鬼才工程师提出的沉浸式光刻技术，在推出的新款光刻机制程工艺上超越了尼康，之后就一直领先，直到推出高端光刻机让尼康再也无法追赶。
可以说日本可以探索研发出可以取代高端光刻机的工艺，其实算得上是厚积薄发吧。这个新的工艺对于日本和全行业来说都是比较重要的，那么其有什么优势和劣势，之后真的能取代阿斯麦的光刻机吗？
据了解，其优势是比较明显的，例如生产同样的一块芯片，不仅在成品和芯片性能上没什么差异，其相较于阿斯麦的光刻机还可以节约90%的电量，同时在整体的设备成本上可以节约40%，相较于一台光刻机十亿的售价，40%是个惊人的降幅了，相当于直降4亿。当然其劣势也比较的明显那就是成品率不高，而成品率是代工厂十分看中的，毕竟本身的芯片生产成品率就不高，如果设备在跟不上，那就很致命了，买设备省下来的钱也就没意义了。
目前此技术还只能实现15纳米的量产阶段，距离5纳米和更高的3纳米等还有很大距离。同时阿斯麦的实力也不容小觑，技术摆在那里呢，其现在应该已经在研究更先进的技术了，毕竟现在的高端光刻机虽然还能支持3纳米生产，但是2纳米1纳米就不一定行了，现在的台积电和三星已经在进行相关的部署研发了。作为它们的合作商，有它们提供研究数据支持，阿斯麦还是有很大优势的。取代比较难，但是日本的纳米印压技术（NIL）还是会给这个行业带来一定的冲击的。
技术是日新月异的，实现对某一个产品的研发不一定要拘束于一点，可以寻求其它方式，日本的这个创新技术在提供了一个攻克芯片生产的思路的同时，也体现了咱们在该领域上的差距。目前咱们的光刻机之路还很艰难，这可以理解，毕竟起步晚。只要肯努力就行，没什么是造不出来的。并且在未来6G出现之后，高端制程的芯片是否还这么有用还很难说，云端服务器的强大一定程度上使得客户端对芯片的要求不像现在这么高，未来谁掌握了6G，将会占据主动权，好在咱们的华为和中兴在通信技术上全球领先。不过也不可骄傲自满，因为在我们前进的同时，别人也没有停下自己的步伐。
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