提到光刻机，以前不少人可能会问“这是什么机器”，而如今光刻机已成为许多人茶余饭饱后的谈资。所谓光刻机，其实就是芯片制造过程中最为关键的机器，由于对精密度要求极高，制造工艺极其复杂，这就导致光刻机不仅产量非常低，而且价格也高得离谱。据悉，一台高端EUV光刻机的售价能达到1亿多美元，合计人民币10亿，而且年产量只有几十台，供不应求。主要原因就是EUV光刻机全球只有一家企业能够生产，那就是荷兰的ASML。
值得注意的是，即便一台EUV光刻机高达10亿元，但不是你想买就能买到，如果没有ASML的EUV光刻机，就是没有办法制造出5nm工艺的芯片，就会在芯片制造竞争激烈的市场上吃亏。正是因为ASML在EUV光刻机领域的绝对垄断地位，这也让全球高端芯片制造企业的命运完全被ASML所“掌控”。巨大的市场外加上ASML垄断对全球芯片制造业所带来的限制，一种芯片制造新技术正在崛起。
芯片制造新技术崛起
众所周知，芯片制造就是在一颗拇指般大小的芯片上面嵌入上百亿的晶体管，目前的方法是通过极紫外光线在涂有光刻胶的晶圆上进行雕刻，晶体管的密度，芯片的工艺、性能直接由光刻机的精度来决定。然而，日本半导体企业铠侠与合作伙伴共同研发的纳米压印微影技术（NIL），不用紫外光源，工艺就能达到5nm。
所谓压印微影技术，顾名思义就像盖印章一样，将精心雕刻好的电路模型直接盖到处理好的晶圆上，就好像从前在信封的封口处放上印油，通过印有自己信息的印章压在印油上，等冷却后自己的印章信息就会固定下来，而纳米压印微影技术则是将这一技术精确到纳米级别，从而在晶圆上印出自己想要的芯片。
这种芯片制造技术的优势就在于彻底摆脱了对极紫外光源的依赖，与光刻设备相比技术难度更低，芯片制造过程更简单，功耗、成本也更低，据悉NIL设备的耗电量只有EUV光刻机的10%。媒体报道，日本铠侠从2017年就开始与佳能等企业进行合作，目前已经能够实现15nm工艺的量产，2025年将实现5nm工艺的量产。
NIL取代EUV光刻机？
NIL设备的出现，在半导体领域引起了广泛的关注，由于与光刻机完全是两条不同的路线，没有ASML的专利限制，外加上更高效、成本更低的优势，这种技术受到了全球许多半导体企业的关注，包括我国在内的许多半导体科研机构均加入到了NIL设备的研发当中，这对于全球半导体产业的发展，确实起到了至关重要的作用。此时不少网友可能会问，NIL是否能取代ASML的EUV光刻机呢？暂时还不能！
NIL虽然芯片制造领域的新技术，但同样面临着一些难题，那就是NIL设备对芯片制造的工作环境要求非常苛刻。NIL设备与晶圆的接触面积比EUV光刻机高出上亿倍，这就导致NIL设备非常容易受到细微颗粒的污染，一个病毒直径大小的尘埃就足以毁掉一颗芯片。并且压印过后还要保证刻有芯片电路的印章如何能“出淤泥而不染”，避免晶圆的残渣留在印章的缝隙之中，这都是一系列的问题，所以短期内还不能取代EUV光刻机。
值得注意的是，ASML本身就是在突破一个个问题之后成为当下的光刻机巨头，相信NIL技术所面临的问题也会一一被攻克。更因为NIL设备是目前我们所知道的，唯一能打破ASML EUV光刻机垄断的技术，外加上这种设备成本更低、更环保，这导致NIL技术开始逐渐崛起，成为芯片制造领域的“新宠”！
关于此事，大家怎么看？
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