逐渐突破!中国国产光刻机正式传来好消息,中科院立功了!


我国在现在的技术发展上有一些不太好的发展领域,但这些都是在发展之前,其他国家对于我们进行技术封锁所导致的。

虽然现在关于这些技术的封锁也依然存在,但是随着中国实力的不断提升以及科研能力的加强,这些限制正在逐渐被突破。
即使有其他国家不愿意教受,我们也可以通过自己的方式来做尝试,还可以得到结果。
而在中国科研人员的不断努力之下,该来的终究还是来了,大家都知道,在芯片制造领域,中国可以说是起步比较晚,在加上西方国家的技术封锁,就让我们在芯片的制造上更加举步维艰,本身在芯片制造领域需要到的技术就更多。

这一领域不仅需要科研人员技术高超,还需要制造技艺的精进,正是在这样的发展过程当中,才让中国的芯片技术落后,其他国家一大截。
但由于我国华为的5g技术是全球领先,所以在当时这样的发展情形之下,关于芯片的制造,想要能够搭配得上5G技术的发展,就需要从其他国家购买芯片。
或者说,购买制造芯片的光刻机,本来在很早之前,我们国家已经谈好了和荷兰的合作,但由于美国的限制令让这样的光刻机无法直接出售到中国,所以也让中国之前谈好的一些芯片以及手机的运用难以上线。

在这样的压力下,中国的科研人员更是扛起了研制芯片的责任,在我国中科院各位科研人员的共同努力之下,我国的芯片制造技术也终于有了一些好的发展,根据国望光学目前发出的公示,现在我们的投影光刻机曝光了它的光学系统,而这样的光学系统将运用在28纳米的芯片批量生产当中。
虽然这个数字和西方国家7纳米,5纳米的差距还比较大,但对于中国来说,绝对是非常大的一个进步。

因为在这之前,我国只能够制造出90纳米的光刻机,而这也意味着,在技术上的加强,我们有了质的提升,28纳米的芯片自然会比90纳米的芯片拥有更加优越的性能,在用途方面也更加广泛,同时,在一些新能源领域,也能够占据它的超强优势。
而中国在芯片制造领域之所以能够有这样的发展,离不开中科院科研技术的努力,他们不仅联合有很多的研究机构对光刻机进行突破,还对于一些企业进行的技术上的传授。

美国开始对中国有芯片的限制令之后,中国不论是国产的企业还是正式的研究部,更甚是一些私人的企业在芯片的制造上都想要献出自己的一份力。
上海微电子在这方面也做得比较好,在2022年他们也许会交付出第一台28纳米工艺的国产浸泡式光刻机,这台光刻机的制造也意味着我国在28纳米的芯片制造上可以拥有完全的自由,并且这些完全是由国产掌握,也就意味着中国拥有了自己芯片的知识产权以及自主的产业链,那么就不会再害怕美国这样的禁止令了。

虽然说从90纳米到28纳米,我国做了很大的技术提升,但是想要满足现在的市场,需要的是更为精进的技术,不过目前来说的下一步目标是进行5纳米光刻机的攻克,这样的芯片对于手机以及电脑的发展有很大的推动性作用,但是想要制造这样的光刻机,需要攻克的困难,也更多。
但是也请大家一定要有信心,目前为止,我国虽然没有研发出5纳米的光刻机,但是已经可以制造五纳米的刻蚀机了,它的出现会经历我国在于芯片事业的发展,而有了它,也就意味着,在乎纳米芯片的研究突破上,我们可以发展的更好。

这对于中国的整体芯片行业发展是一个具有鼓励性的好消息,而相信在中科院的共同支持之下,中国的芯片事业会有一个越来越好的发展前景。
中国现在越来越强,但之前的一些技术封锁可能会让我们受到一定的影响,但现在中国的发展不仅是国家的问题,还是很多民族企业的问题,所以在技术的颜值上也得到了更多的支持,这些技术方面的突破,也会在技术人员的支持之下,变得越来越好。

突破对于中国来说是一件比较简单的事情,只要给我们时间,中科院在这次的芯片制造当中立了大功,而相信只要能够有这样的优势,我们的芯片发展事业也会有更大的提升。
到顶部