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最近日本消息频繁，不顾沿海国家反对要往大海倾倒核污水，可以说没干一件能上台面的事，近日又有消息称日本将断供中国KrF光刻胶，消息一出立即引发国内相关产业一片震动。
这可能是美国强化EUV光刻机和EDA软件出口中国以后，以美国为首的势力对中国半导体行业围追堵截的又一手段。
01
断供KrF光刻胶
光刻胶又名"光致抗蚀剂"，它是一种在紫外光等光照或辐射下，溶解度会发生变化的薄膜材料。光刻胶品类繁多，其中KrF、ArF光刻胶主要用于先进芯片制程当中。
在芯片制造工艺中有40-50%的时间是在光刻过程中，这个过程不光需要光刻机，还要在硅片上涂一层光刻胶，光刻胶的质量决定了光刻精度。简单的说，你就算有最牛的极紫外光EUV光刻机，没有好的光刻胶，你的光刻精度还是不行。可以说光刻胶直接影响集成电路的性能、成品率以及可靠性，由此可见光刻胶在芯片制造过程中的重要性。
但是光刻胶如此重要的材料却被日本紧紧的扼住了喉咙。
目前前五大厂商就占据了全球光刻胶市场87%的份额，行业集中度高。其中，日本JSR、东京应化、日本信越与富士电子材料市占率加和达到72%。并且高分辨率的KrF和ArF光刻胶核心技术亦基本被日本和美国企业所垄断，产品绝大多数出自日本和美国公司，如陶氏化学、JSR株式会社、信越化学、东京应化工业、Fujifilm，以及韩国东进等企业。整个光刻胶市场格局来看，日本是光刻胶行业的巨头集中营，也是光刻胶的垄断国。
日本凭借其垄断地位断供我国光刻胶，今年5月27日，据产业媒体报道，由于日本信越化学KrF光刻胶产能不足等原因，导致中国大陆多家晶圆厂KrF光刻胶供应紧张，部分中小晶圆厂KrF光刻胶甚至出现了断供！
02
漏洞百出的理由？
对于此时断供日芯半导体对此做出解释：“之所以向大陆半导体停供KrF光刻胶，是因为KrF光刻胶的产能有限”。为了均衡全球半导体芯片的发展，日本决定限制对大陆一线晶圆厂KrF光刻胶的供给。
分析人士认为这样的断供理由听起来似乎很完美但实际上也是有漏洞的,所谓的产能有限，更像日本随便编造的借口而已。
之所以这样说，是有依据的。今年2月据新浪科技消息，台积电将斥资1.9亿美元在日本建厂，成立一座子公司。外界早有传闻台积电要赴日建厂的消息，直到这次台积电正式确认赴日建厂，经董事会的批准，拿出186亿日元设立全资子公司。台积电赴日建厂并不是建设晶圆代工厂，而是建化学原料厂在芯片材料上展开布局，比如扩大3DIC材料的研究。
但有一点我们要知道，台积电对于选厂地址的要求十分严格。排除政策扶持、科技基础因素，建厂所在地的原料供给也是台积电很看重的一点。台积电赴日建厂，建设的是化学原料厂，专门为芯片制程提供原料。如果日本KrF光刻胶等半导体原料真的不足，根本不会通过台积电的选址考察。因此，单从这一点来考虑所谓的KrF光刻胶不足而断供更像是借口。
03
断供的时机非常巧妙
要知道，美国一直在加大对我国半导体领域的打击力度，不仅控制ASML向我国出售EUV光刻机而且EDA软件上也在强化对中国的限制。此外，近期美国正积极拉拢日本、澳大利亚、印度和欧盟等盟友，企图建造一个将中国排除在外的国际产业供应链，目的就是摆脱对中国供应链的严重依赖。日本是对美国此举响应最为积极的国家，要求日企停止在华投资、并将制造产业向印度或者东南亚转移等。
所以，日本此时断供光刻胶，不排除站队美国，企图讨好美国老大哥的嫌疑。芯片制造的核心三要素EUV光刻机、EDA软件、光刻胶都已被控制。
日本断供我国光刻胶是有前车之鉴的。我们可以回看在2019年时候，日韩曾经因为一些问题导致关系急速恶化，甚至相互出台了一系列制裁措施。在此期间日本就曾把光刻胶等半导体材料对韩国禁运，而三星，LG等韩国企业都是对芯片需求异常高的大厂商，韩国的经济基本上是依赖三星等公司。此手段一出韩国等于走投无路，只能向日本求和，以此可以看出半导体材料对一个国家大企业是有摧毁性力量的，我们不得不重视。
04
国产光刻胶的挑战和机遇
此次KrF光刻胶断供的消息传出来后，国内投资者纷纷奔向国内光刻胶企业，包括南大光电、晶瑞股份在内的国内光刻相关企业陆续迎来上涨。除了资本之外国家政策也在扶持国产光刻胶产业的发展，此前财政部等四部门发布《关于促进集成电路产业和软件产业高质量发展企业所得税政策的公告》，税收优惠政策向先进制程倾斜，光刻胶是半导体光刻工艺的核心材料自然也能受益于优惠政策。
在资本和政策的支持，国产光刻胶似乎正在迎来前所未的发展机遇。国产光刻胶巨头南大光电、晶瑞股份等也连发出通告称自家研制的KrF光刻胶或取得认证突破、或完成中试正在验证。
可需要注意的是，尽管南大光电、晶瑞股份发出通告称已取得突破性进展，但光刻胶的实际验证周期在2-3年，客户验证的动力并不充足。同时，光刻胶的保质期有限（通常在6-9个月），上游厂商需要在短时间找到众多愿意尝试验证的下游客户，这并不是件容易事。这甚至意味着光刻胶行业的新入局者起码得做好三年以上亏损的准备。此外，国内了解和掌握集成电路制造用高端光刻胶技术的人才极度匮乏，日美等少数光刻胶企业对此类人才也进行高度管控与流动限制，这也使得国内光刻胶厂商在研发光刻胶这条路上异常坎坷。
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